晶片测试机
解决方案

晶片测试机的工作原理基于对晶片表面的各种缺陷进行高精度的检测。通过使用先进的检测技术,测试机能够识别并分析晶片上的微小缺陷,如颗粒、划痕和凹坑等。

<2‰
误判率
5件/S
整线效率
±2um‌
精度范围
设备介绍

晶圆几何测量系统可广泛应用于晶圆制造、及封装工艺检测、3C 电子玻璃屏及其精密配件、光学加工、显示面板、MEMS 器件等超精密加工行业,可测各类包括从光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物体表面。

设备亮点
非接触厚度、三维微纳形貌一体测量
集成厚度测量模组和三维形貌、粗糙度测量模组,使用一台机器便可 完成厚度、TTV、LTV、BOW、WARP、粗糙度、及三维形貌的测量。
高精度厚度测量技术
采用高分辨率光谱共焦对射技术对WAFER进行高效扫描,搭配多自由度的静电放电涂层真空吸盘,晶圆规格最大可支持至12寸,采用MAPPING跟随技术,可编程包含多点、线、面的自动测量。
高精度三维形貌测量技术
采用光学白光干涉技术、精密Z向扫描模块和高精度3D重建算法,Z向分辨率最高可到0.1NM;独特隔振设计,极大降低地面振动和空气声波振动噪声,获得极高的测量重复性。
设备参数
误判率
2‰
精度范围
±2um‌
整线效率
5件/S
电性能测试
可测
可靠性能测试
可测
自动测试设备(ATE)
可测

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